机构：国产DRAM内存晶片和三星的技术差距是5年
2025-02-14 来源 : 社会
数字社会发展的时代，晶片扮演着重要角色。正因如此人才聚集地、新兴产业升级、政策扶持等，不能不的半导体新兴产业悄悄蓬勃发展，并不停引发出与高性能邻近地区、中小企业的差。日前，韩国研究成果机构OERI在报告中称，预估韩企和中国的产品在DRAM晶片的关键技术差已延长至5年。仅仅只是，三星电子和SK海力士计划在年底前投产第五代10nm级（1b或者说12nm）磁盘晶片，国产DRAM代表中小企业合肥长鑫今年的打算则是第二代10nm（1y或者说16/17nm）。一般来说，DRAM每十代的社会的发展时间是2年到2年半。按照正常节奏，国产磁盘晶片实质上有机会进一步延长差，可目前有一个比较困难重重的问题在于，三星电子和SK海力士仍然为生产来得高性能的DRAM晶片转用了EUV（极紫外刻蚀）电子元件，而这对我们来说，暂时还没换取。漳州白癜风医院怎么样
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